안녕하세요. ETCH 쪽에서 ENG'R로 근무중인 현직자입니다.

 

업무 중 궁금점이 생겨 간단하게나마 공부 후 질문내용 정리하여 문의드립니다.

 

상황
ICP 설비에서 BIAS REFLECT POWER를 줄이기 위하여 RF FREQUENCY TUNE을 이용한 상황입니다.
FREQUENCY TUNE을 사용하면 임피던스 Z가 변하면서 REFLECT POWER가 변하며, FORWARD POWER는 임피던스 Z와 Vpp에 영향을 받는 것으로 알고 있습니다.


질문
  1. 현재 설비는 VOLTAGE MODE를 사용중인데, 이때 Generator에서 인가하는 Voltage가 Vgen이라고 하면 BIAS RF VOLTAGE = Vgen = Vpp 동일한 값을 가지는지 궁금합니다.

 

  2-1 동일하다면, VOLTAGE MODE에서는 FREQUENCY 가변을 하게되면 임피던스의 변화에 따라 BIAS FORWARD POWER가 변한다는 가정이 옳다고 볼 수 있을까요?

  2-2 FORWARD POWER가 변한다는 가정하에, REFLECT POWER 역시 변할텐데, 결과적으로 LOAD POWER도 같이 변할 것으로 생각되는데 해당 가설이 적절한가요?
 
  3. POWER MODE에서는 FORWARD POWER가 SET된 값으로 인가되기때문에 RF Frequency 가변에 따라 Vpp값도 변하여 Forward POWER는  일정한게 맞을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76738
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92283
22 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 839
21 RF 파워서플라이 매칭 문제 815
20 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 787
» RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 742
18 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 702
17 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 657
16 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 634
15 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 625
14 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 585
13 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 551
12 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 548
11 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 546
10 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 484
9 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 406
8 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 391
7 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 357
6 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 348
5 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 331
4 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 217
3 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 70

Boards


XE Login