안녕하세요 반도체 회사에 근무하고 있는 회사원입니다.

RF Power 를 이용하여 Film을 Deposition 하는 부서에 있는데요,

주요 관리 항목 중에 RF Vpp 항목이 있습니다.

RF Vpp 관련해서 문의드릴게 있습니다.


1. Ti Film을 RF Power를 이용하여 Dep하는데, Chamber 내부에 Ti Film이 더 많이 Depo 되면 RF Vpp는 조금씩

    떨어지는데 왜 그런건지 알 수 있을까요?

    업체에서는 Vpp와 Vdc가 반비례 관계여서 Vpp는 떨어지고, Vdc가 올라가게 된다고 하는데

    실상은 Vpp와 Vdc는 모두 떨어지는 Trend를 보이고 있습니다.


2. 두 번째로 Chamber의 RF Ground 역할을 하는 Stage Heater를 교체했는데,

    이전보다 RF Vpp Level이 떨어졌습니다. 무슨 연유에서 그런건지 모르겠는데 Ground가 바뀐 것만으로도 Vpp가 떨어질 수 있을까요?


설명이 부족하지만 도움 부탁드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5816
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17283
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53105
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64496
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85109
» RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5102
124 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 4472
123 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 4451
122 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4130
121 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] 3770
120 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3441
119 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 3115
118 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3080
117 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3041
116 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 2814
115 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 2787
114 Descum 관련 문의 사항. [1] 2764
113 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 2649
112 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 2588
111 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2539
110 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 2482
109 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 2300
108 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2232
107 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2178
106 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2160

Boards


XE Login