안녕하세요 반도체 회사에 근무하고 있는 회사원입니다.

RF Power 를 이용하여 Film을 Deposition 하는 부서에 있는데요,

주요 관리 항목 중에 RF Vpp 항목이 있습니다.

RF Vpp 관련해서 문의드릴게 있습니다.


1. Ti Film을 RF Power를 이용하여 Dep하는데, Chamber 내부에 Ti Film이 더 많이 Depo 되면 RF Vpp는 조금씩

    떨어지는데 왜 그런건지 알 수 있을까요?

    업체에서는 Vpp와 Vdc가 반비례 관계여서 Vpp는 떨어지고, Vdc가 올라가게 된다고 하는데

    실상은 Vpp와 Vdc는 모두 떨어지는 Trend를 보이고 있습니다.


2. 두 번째로 Chamber의 RF Ground 역할을 하는 Stage Heater를 교체했는데,

    이전보다 RF Vpp Level이 떨어졌습니다. 무슨 연유에서 그런건지 모르겠는데 Ground가 바뀐 것만으로도 Vpp가 떨어질 수 있을까요?


설명이 부족하지만 도움 부탁드리겠습니다.

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