플라즈마는 전기장에서 가속운동을 하고 자기장에서 회전운동을 하는데 이런 현상이 발생하는 이유가 자기의 시간적 변화에 의해 전기적 성질이 발현되는 현상을 뜻하는 전자기유도현상과 관련있나요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [300] 77855
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20761
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57682
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69185
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93509
118 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1858
117 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1780
116 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1772
115 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1769
114 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1740
113 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1604
112 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1589
111 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1561
110 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1496
109 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1489
108 플라즈마 관련 교육 [1] 1476
107 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1469
106 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1463
105 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1439
104 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1421
103 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1415
102 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1404
101 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1371
100 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1335
99 플라즈마 기초입니다 [1] 1310

Boards


XE Login