Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:2060

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.


요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.


참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 31(5), 050825.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77309
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20506
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57415
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68958
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92990
490 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1527
489 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1541
488 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1547
487 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1555
486 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1562
485 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1565
484 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1573
483 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1578
482 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1586
481 plasma 형성 관계 [1] 1603
480 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1618
479 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1626
478 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1644
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1661
476 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1690
475 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1693
474 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1709
473 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1719
472 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1720
471 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1726
쓰기
태그

Boards

XE Login