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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다.
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
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wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상
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347 |
Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성
[1] | 1826 |
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346 |
ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage
[1] | 1804 |
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345 |
CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문
[1] | 1790 |
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터보펌프 에러관련
[1] | 1788 |
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343 |
CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다.
[3] | 1743 |
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342 |
압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문
[1] | 1730 |
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341 |
RF 전압과 압력의 영향?
[1] | 1725 |
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340 |
standing wave effect에 대한 질문이 있습니다.
[1] | 1720 |
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339 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
[1] | 1719 |
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338 |
EEDF, IEDF, Cross section관련 질문
[1] | 1716 |
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337 |
Pecvd 장비 공정 질문
[1] | 1708 |
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안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다.
[1] | 1692 |
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Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여
[1] | 1688 |
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ICP reflecot power 관련 질문드립니다.
[1] | 1658 |
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CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다.
[3] | 1644 |
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전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다.
[1]  | 1625 |
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Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다.
[1] | 1615 |
