질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92989 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77308
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20506
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57415
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68954
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92989
450 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3568
449 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3566
448 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3519
447 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3510
446 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3499
445 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3471
444 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3454
443 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3406
442 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3361
441 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3351
440 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3351
439 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3286
438 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3262
437 CVD 공정에서의 self bias [1] 3231
436 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3210
435 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3169
434 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3092
433 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 3091
432 Plasma etcher particle 원인 [1] 3081
431 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3080
쓰기
태그

Boards

XE Login