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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[283]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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387 |
임피던스 매칭회로
[1]  | 2850 |
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386 |
Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다.
[2] | 2862 |
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385 |
HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
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384 |
[Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련]
[3] | 2913 |
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383 |
VI sensor를 활용한 진단 방법
[2] | 2920 |
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382 |
HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의
[1] | 2948 |
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381 |
RF matcher와 particle 관계
[2] | 3044 |
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고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이
[1] | 3060 |
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379 |
Plasma etcher particle 원인
[1] | 3068 |
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378 |
Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
[1] | 3074 |
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377 |
Plasma 에칭 후 정전기 처리
[3] | 3077 |
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376 |
아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서
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375 |
M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다.
[1] | 3204 |
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374 |
CVD 공정에서의 self bias
[1] | 3220 |
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matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다.
[3] | 3252 |
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electron energy distribution에 대해서 질문드립니다.
[2] | 3279 |
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371 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다.
[2] | 3335 |
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Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다.
[2] | 3348 |
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PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다.
[1] | 3348 |
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368 |
PECVD Precursor 별 Arcing 원인
[1] | 3393 |
