질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92908 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77156
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20437
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57340
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68884
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92908
222 ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] 34967
221 질문 있습니다. [1] 18370
220 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22641
219 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25590
218 플라즈마 진단법에 대하여 [1] 20587
217 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] 20267
216 UBM 스퍼터링 장비로... [1] 20922
215 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24907
214 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24644
213 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27227
212 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41287
211 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23427
210 석영이 사용되는 이유? [1] 20050
209 surface wave plasma 에 대해서 [1] 18559
208 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23279
207 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21123
206 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23783
205 질문이 몇가지 있읍니다. [1] 19197
204 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서... [1] 21340
203 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24696

Boards


XE Login