질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:105501 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102124
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24549
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61205
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73278
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105501
29 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 724
28 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 478
27 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 375
26 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 615
25 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 1212
24 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 892
23 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 841
22 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1368
21 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 7874
20 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 860
19 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 4187
18 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 1163
17 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선] [1] 2784
16 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1452
15 라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수] [1] 1096
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 2044
13 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1398
12 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도] [2] 17017
11 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1932
10 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1399
쓰기
태그

Boards

XE Login