ESC ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.

2014.06.03 09:05

주민호 조회 수:18177

안녕하세요. 

식각공정 설비 Eng'r로 근무하고 있는데요. 

최근 Metal 식각을 하는 설비의 ESC Chuck에 이전에는 보지 못한 현상이 있어 이렇게 문의 드립니다.

첨부한 그림에서 처럼 ESC Chuck Center 부위에 Pit 현상이 발생하고 있습니다.

BIPOLAR ESC구요.  Chucking 전압은 700v이고 Dechuck전압은 -700v 입니다.

이런 현상이 발생하는 요인으로 어떤 것들이 있는지.....

바쁘시겠지만 답변 부탁드립니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [338] 232531
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 68015
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 105118
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 117313
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 199686
26 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 4501
25 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 3872
24 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 3771
23 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 4701
22 ICP VIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [Plasma breakdown 및 생성] [1] file 4103
21 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 3635
20 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [ESC 영역 온도 조절] [1] 5509
19 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 18373
18 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 2790
17 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절] [1] 8687
16 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [웨이퍼 근방 쉬스 특성, Edge ring] [2] 5377
15 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 4178
14 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 6402
13 ESC Cooling gas 관련 [ESC 온도 제어] [1] 6226
12 SI Wafer Broken [Chucking 구동 원리] [2] 5406
11 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 5578
10 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap] [1] 4328
9 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 21929
» ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. file 18177
7 정전척 isolation문의 입니다. [Paschen's law와 절연파괴현상] [1] 10321
쓰기
태그

Boards

XE Login