질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76889 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20286 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57204 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68758 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92716 |
| 24 | wafer 전하 소거: 경험 있습니다. | 20484 |
| 23 | plasma cleanning에 관하여.... | 20839 |
| 22 | UBM 스퍼터링 장비로... [1] | 20918 |
| 21 | 스퍼터링시 시편두께와 박막두께 [1] | 21613 |
| 20 | 펄스바이어스 스퍼터링 답변 | 21954 |
| 19 | 플라즈마 코팅에 관하여 | 22096 |
| 18 | 질문있습니다 교수님 [1] | 22174 |
| 17 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22552 |
| 16 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22781 |
| 15 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23779 |
| 14 | Arcing | 23850 |
| 13 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24190 |
| 12 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24673 |
| 11 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24893 |
| 10 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] | 28968 |
| 9 | [Sputter Forward,Reflect Power] [1] | 29280 |
| 8 | PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 | 29776 |
| 7 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
 | 30073 |
| 6 | DC Bias Vs Self bias [5] | 31580 |
| 5 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 31690 |