질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92719 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76895
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20286
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57205
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92719
164 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 189
163 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 238
162 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 675
161 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1454
160 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 286
159 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 363
158 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 410
157 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 626
156 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1057
155 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 373
154 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 622
153 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28968
152 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 745
151 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2362
150 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 993
149 RF Sputtering Target Issue [2] file 617
148 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1906
147 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 558
146 Polymer Temp Etch [1] 678
145 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 493
쓰기
태그

Boards

XE Login