Deposition magnetic substrate와 플라즈마 거동 [대면 재료의 전기적 특성와 플라즈마 쉬스의 변화]

2018.12.19 21:30

홍석모 조회 수:614

안녕하세요. 저는 유니스트에 재학중인 대학원생입니다.

 

이전에도 ICP CVD에 대해서 질문을 올렸었는데 그때 답변을 보고 문제점이 무엇인지 알수 있었습니다. 너무나 감사합니다.

 

그래서 이번에도 질문이 생겨 다시한번 찾아오게 되었습니다.

 

이번에 궁금한 점은 ICP CVD의 sample stage나 substrate에 magnetic property가 존재할 경우 plasma의 거동이 변하는지 변한다면 어떤식으로 변하게 될지 궁금하여 질문을 드립니다.

 

제가 찾아본 자료들을 보면 sample stage에 bias를 걸어서 deposition rate을 조절할수 있다는 자료들을 찾아 봤었습니다.

 

 그러다 문득 생각난게 magnetic field도 유사한 결과를 보여줄것 같은데 이렇게 생각해도 되는지 궁금합니다.

 

혹시 관련된 서적이나 논문 자료등 추천해주실 만한 자료가 있으시면 염치 불구하고 부탁드리겠습니다.

 

감사합니다.

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