질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92925 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [281] 77177
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20452
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57350
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68888
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92925
383 Plasma etcher particle 원인 [1] 3046
382 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2362
381 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 342
380 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4382
379 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1037
378 고진공 만드는방법. [1] 1019
377 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 427
376 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 698
375 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1324
374 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 470
373 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 766
372 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5990
371 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2742
370 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3458
369 활성이온 측정 방법 [1] 575
368 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1472
367 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2260
366 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1782
365 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2340
364 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1988
쓰기
태그

Boards

XE Login