질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92903 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77147
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20426
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57336
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68882
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92903
442 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 2006
441 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 2013
440 chamber impedance [1] 2023
439 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 2029
438 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 2032
437 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 2040
436 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2044
435 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2084
434 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2118
433 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2132
432 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2132
431 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 2146
430 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2160
429 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2161
428 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2183
427 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2256
426 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2257
425 플라즈마볼 제작시 [1] file 2264
424 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2278
423 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2292
쓰기
태그

Boards

XE Login