Others 잔류시간 Residence Time에 대해
2021.06.08 10:34
안녕하세요 박사님. 플라즈마 장비를 다루는 반도체 장비 회사에 다니는 연구원입니다.
항상 좋은 글 잘 보고 있습니다.
다름이 아니라 저희가 현재 유입하는 Gas의 유량을 조절하여 이것이 공정에 어떤 영향을 끼치는지 분석하고 있습니다.
저희가 펌프의 Valve를 고정해놓고 실험을 했기 때문에 유입시키는 Gas 양을 줄이면서 자연스럽게 Pressure 또한 줄어 들었는데,
이 때 Gas의 Residence Time 이 어떻게 변하는지 궁금합니다.
같은 양의 Gas라고 하더라도 Residence time에 따라 공정 결과 값이 바뀔 것 같은데
이 Residence time은 어떻게 구할 수 있을까요?
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] | 77215 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20468 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57362 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68901 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92947 |
586 | CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] | 1011 |
585 | Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] | 1019 |
584 | 고진공 만드는방법. [1] | 1020 |
583 | RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] | 1025 |
582 | langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] | 1029 |
581 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1029 |
580 | anode sheath 질문드립니다. [1] | 1033 |
579 | Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] | 1040 |
578 | CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] | 1044 |
577 | 플라즈마 코팅 [1] | 1046 |
576 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1058 |
575 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1058 |
574 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1059 |
573 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1069 |
572 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1074 |
571 | RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] | 1079 |
570 | 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] | 1080 |
569 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1090 |
568 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1094 |
567 | Plasma Arching [1] | 1096 |