질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92808 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76997
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20342
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57264
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68808
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92808
521 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1343
520 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1353
519 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1359
518 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1371
517 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1373
516 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1385
515 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1392
514 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1394
513 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1396
512 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1398
511 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1402
510 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1409
509 플라즈마 관련 교육 [1] 1419
508 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1423
507 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1426
506 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1427
505 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1439
504 MATCHER 발열 문제 [3] 1441
503 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1443
502 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1446
쓰기
태그

Boards

XE Login