질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] | 77145 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20426 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57335 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68879 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92901 |
| 62 | Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] | 354 |
| 61 | 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] | 342 |
| 60 | Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 | 342 |
| 59 | RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] | 338 |
| 58 |
RF sputter 증착 문제 질문드립니다.
[1]  | 333 |
| 57 | 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] | 328 |
| 56 | Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] | 327 |
| 55 | E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] | 326 |
| 54 | 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] | 326 |
| 53 | RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] | 308 |
| 52 | 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] | 296 |
| 51 | RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] | 282 |
| 50 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 279 |
| 49 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 275 |
| 48 | 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] | 265 |
| 47 | GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] | 262 |
| 46 | Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] | 244 |
| 45 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 241 |
| 44 | Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] | 240 |
| 43 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 236 |