Others 잔류시간 Residence Time에 대해
2021.06.08 10:34
안녕하세요 박사님. 플라즈마 장비를 다루는 반도체 장비 회사에 다니는 연구원입니다.
항상 좋은 글 잘 보고 있습니다.
다름이 아니라 저희가 현재 유입하는 Gas의 유량을 조절하여 이것이 공정에 어떤 영향을 끼치는지 분석하고 있습니다.
저희가 펌프의 Valve를 고정해놓고 실험을 했기 때문에 유입시키는 Gas 양을 줄이면서 자연스럽게 Pressure 또한 줄어 들었는데,
이 때 Gas의 Residence Time 이 어떻게 변하는지 궁금합니다.
같은 양의 Gas라고 하더라도 Residence time에 따라 공정 결과 값이 바뀔 것 같은데
이 Residence time은 어떻게 구할 수 있을까요?
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76875 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20274 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68751 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92698 |
| 797 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 11 |
| 796 | Druyvesteyn Distribution | 13 |
| 795 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 24 |
| 794 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 28 |
| 793 | Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. | 42 |
| 792 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] | 60 |
| 791 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 64 |
| 790 | 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] | 65 |
| 789 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 71 |
| 788 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 71 |
| 787 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 71 |
| 786 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 79 |
| 785 | 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] | 79 |
| 784 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 92 |
| 783 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 94 |
| 782 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 117 |
| 781 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 117 |
| 780 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 120 |
| 779 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 138 |
| 778 | Microwave & RF Plasma [1] | 138 |