질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:199667 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [338] 232513
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 67994
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 105102
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 117291
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 199667
538 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 3533
537 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [LF와 Sheath] [1] 4771
536 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field] [1] 2271
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 3641
534 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher] [2] 9358
533 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure] [1] 8162
532 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 3602
531 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 5006
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath] [1] 4581
529 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 25277
528 CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information] [1] 4521
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion] [1] 3149
526 remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown] [1] 17139
525 RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage] [3] 3734
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 4287
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power] [1] 10572
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 2868
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI] [2] 2916
520 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 7053
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문드립니다. [ECR과 uniformity] [1] 5319
쓰기
태그

Boards

XE Login