질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:105459 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102083
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24544
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61190
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73243
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105459
493 질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포] [1] 2947
492 chamber impedance [장비 임피던스 데이터] [1] 2435
491 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간] [1] 4200
490 플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge] [1] 2543
489 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달] [1] 5727
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2397
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [충돌 거리 및 Deposition] [1] 1047
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화] [2] 6771
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy] [1] 2076
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속] [1] 1518
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance] [3] 3720
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 3204
481 교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath] [1] 1155
480 wafer bias [Self bias] [1] 1523
479 Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1396
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder] [1] 734
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 2635
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1170
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 2390
474 PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] 33011

Boards


XE Login