질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:110162 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 109806
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27169
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 64321
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76102
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 110162
215 Reflrectance power가 너무 큽니다. [RF matching과 breakdown] [1] 25460
214 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 25082
213 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27698
212 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41792
211 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23675
210 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20553
209 surface wave plasma에 대해서 [Microwave와 electron temperature] [1] 18887
208 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23451
207 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21620
206 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate] [2] 24299
205 질문이 몇가지 있읍니다. [Lorentz force와 Magnetic cusp] [1] 19460
204 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서 [Equilibrium과 collision] [1] 21684
203 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점… [폭발과 pressure] [1] 25276
202 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [ESC와 capacity] [3] 27151
201 몇가지 질문있습니다 16687
200 플라즈마내의 전자 속도 [Self bias] [1] 22330
199 Plasma Gas의 차이점 [플라즈마 화학 반응 및 에너지 전달] [1] 18553
198 matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] 30154
197 TMP에 대해 다시 질문 드립니다. 18482
196 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! 19485
쓰기
태그

Boards

XE Login