질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] | 103208 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 24699 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 61497 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 73508 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 105923 |
| 153 | 이온주입량에 대한 문의 | 20907 |
| 152 | Peak RF Voltage의 의미 | 22856 |
| 151 | electrode gap | 18153 |
| 150 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 [해리와 세정 활성종] | 97725 |
| 149 | 실생활에서 사용되는 플라즈마 | 18431 |
| 148 | 플라즈마의 어원 [Langmuir] | 16460 |
| 147 | 확산펌프 [DP 변수 검토] | 20660 |
| 146 | 플라즈마에 관하여 [플라즈마 기초] | 19061 |
| 145 | 핵융합 발전에서 폐기물이 않나오는…. [처리와 재활용] | 18673 |
| 144 | 플라즈마을 막는 옷의 소재는? [옷의 소재 표면 처리] | 18640 |
| 143 | 스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화] [1] | 22041 |
| 142 | Plasma source type [CCP, ICP, TCP] | 80443 |
| 141 | 플라즈마를 이용한 발광시스템에 관한 연구 [Plasma lamp] | 17196 |
| 140 | CCP의 electrod 재질 혼동 [PECVD와 화학물 코팅] | 16657 |
| 139 | PECVD에서 플라즈마 demage가 발생 조건 [쉬스와 플라즈마 밀도에 의한 damage] | 30125 |
| 138 | 플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅] | 22219 |
| 137 | wafer 전하 소거: 경험 있습니다. | 20605 |
| 136 | 플라즈마가 불안정한대요.. [압력과 전력 조절] | 24663 |
| 135 | 플라즈마 온도 질문+충돌 단면적 [전자의 에너지에 따른 충돌반응] | 22144 |
| 134 | DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 [플라즈마 부유 전위] | 19804 |