다른 질문사항에 Matcher 매칭회로에서 Load, Tune에 관한 설명을 봤는데요

공정을 진행하다보면 간헐적으로 Load, Tune 값이 바뀌며 Vpp drop이 발생합니다.

PEALD 장비에서 Load와 Tune 값에 영향을 미치는 요소들이 뭐가 있을지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [295] 77443
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20549
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57476
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69002
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93063
493 질문있습니다. [1] 2603
492 chamber impedance [1] 2043
491 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3437
490 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2185
489 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5178
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 2161
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 768
» Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6346
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1739
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1223
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3283
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2921
481 교수님 질문이 있습니다. [1] 793
480 wafer bias [1] 1174
479 Group Delay 문의드립니다. [1] 1170
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 528
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2096
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1062
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 2031
474 PEALD관련 질문 [1] 32668

Boards


XE Login