안녕하세요. 교수님.

국내 반도체장비 업체에서 Plasma etch 설비를 운용하고 있는 연구원입니다.

설비를 운용하다 궁금한 사항이 있어 문의드립니다.


1. RF Bias에 의해 etch가 진행되는 경우, wafer가 안착되는 Chuck의 면적과 Etch량과의 상관관계가 있는지 문의드립니다.

  

2. 1번과 비슷한 질문입니다. 12inch /8inch 2wafer가 아닌 Panel type의 etch를 진행할 때,

    가로와 세로의 길이가 다른경우(ex 300x400mm), 300mm의 edge면과 400mm의 edge면의 E/A가 달라질 수 있는건지 문의드립니다.


항상 도움이되는 답변감사드립니다.

즐거운 하루 보내세요.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 469
542 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2229
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1734
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3618
539 플라즈마 살균 방식 [2] 11415
538 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1365
537 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2342
536 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 425
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1074
534 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3115
533 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6428
» Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1234
531 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2346
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1878
529 질문있습니다 교수님 [1] 22003
528 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1697
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 438
526 remote plasma 데미지 질문 [1] 14428
525 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1889
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1194

Boards


XE Login