Others Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파]

2024.06.13 15:23

민수킴 조회 수:236

안녕하세요

 

2.45[GHz]를 사용하는 마이크로웨이브 플라즈마에서

Electric field가 chamber 내부로 투과하는것이 아닌 유전체와 플라즈마 경계에 Surface wave mode로 형성되는 조건이 궁금해서 문의드립니다.

 

일반적으로 2.45[GHz]에서 cut-off density가 7.4x10^11[1/m^3] 로 알고있는데 이 cut-off density 이상의 플라즈마 밀도가 형성되면 surface wave mode로 작동하는 것이 맞을까요?

 

항상 홈페이지에서 많이 배우고 있습니다.

 

교수님의 고견을 여쭙습니다.

 

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 98196
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23856
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60533
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72402
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 103091
812 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 306
811 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 278
810 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 386
809 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 4717
808 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 357
807 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 583
806 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 510
805 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 371
» Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파] [1] 236
803 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 675
802 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 494
801 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 285
800 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 567
799 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 564
798 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 261
797 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해] [1] 209
796 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 571
795 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 372
794 Druyvesteyn Distribution 307
793 플라즈마 식각 커스핑 식각량 208
쓰기
태그

Boards

XE Login