안녕하세요, PEALD 공정을 공부하고 있는 대학원생입니다.

연구실에서 사용하고 있는 PEALD 챔버를 세정하는 방법을 정확히 알고싶어 문의드립니다. 

현재 CCP type PEALD 장비를 통해 Al,Ti,Si,Zr Oxide 등을 증착하고 있는데, 장비를 자주 사용하다 보니 챔버 내부의 오염이 많이 심해진 상태입니다. 이로 인해 크진 않지만 Plasma 인가시 Reflect 현상도 조금씩 발생하고 있습니다.

지금까지는 챔버온도를 저온(~80도)로 낮추고 IPA, Acetone을 이용해 챔버 내부를 직접 닦은 다음, 고온(250C) 환경에 Baking을 진행하였는데 이러한 방법 이외에 다른 연구실에서는 주로 챔버 클리닝을 어떻게 진행하고, 관리하는 지 답변해주시면 앞으로의 연구에 큰 도움이 될 것 같습니다. 감사합니다!

(챔버 분리 후 전문 업체에 세척 요청을 드리는 방법은 불가한 상황입니다.)