질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:105860 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102968
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61448
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73487
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105860
53 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [Rise rate] [1] 521
52 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 499
51 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 485
50 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 484
49 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 477
48 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 476
47 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 475
46 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 472
45 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 471
44 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 467
43 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 462
42 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 459
41 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 453
40 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 450
39 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 448
38 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 438
37 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 434
36 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 432
35 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 432
34 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 429

Boards


XE Login