ESC ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.
2014.06.03 09:05
안녕하세요.
식각공정 설비 Eng'r로 근무하고 있는데요.
최근 Metal 식각을 하는 설비의 ESC Chuck에 이전에는 보지 못한 현상이 있어 이렇게 문의 드립니다.
첨부한 그림에서 처럼 ESC Chuck Center 부위에 Pit 현상이 발생하고 있습니다.
BIPOLAR ESC구요. Chucking 전압은 700v이고 Dechuck전압은 -700v 입니다.
이런 현상이 발생하는 요인으로 어떤 것들이 있는지.....
바쁘시겠지만 답변 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76871 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20273 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68751 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92694 |
297 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1437 |
296 | ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 | 1436 |
295 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1436 |
294 | Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] | 1425 |
293 | poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. | 1424 |
292 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1414 |
291 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1411 |
290 | dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] | 1406 |
289 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1402 |
288 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1398 |
287 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1393 |
286 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1387 |
285 | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] | 1379 |
284 | 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] | 1374 |
283 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1370 |
282 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1364 |
281 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1362 |
280 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1355 |
279 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1355 |
278 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1345 |