안녕하세요. 

식각공정 설비 Eng'r로 근무하고 있는데요. 

최근 Metal 식각을 하는 설비의 ESC Chuck에 이전에는 보지 못한 현상이 있어 이렇게 문의 드립니다.

첨부한 그림에서 처럼 ESC Chuck Center 부위에 Pit 현상이 발생하고 있습니다.

BIPOLAR ESC구요.  Chucking 전압은 700v이고 Dechuck전압은 -700v 입니다.

이런 현상이 발생하는 요인으로 어떤 것들이 있는지.....

바쁘시겠지만 답변 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102914
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61431
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73480
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105843
313 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 1734
312 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1729
311 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1711
310 Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정] [2] 1708
309 플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건] [2] 1688
308 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1687
307 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [전자전류의 해석] [1] 1676
306 강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net] [2] 1672
305 잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드] [1] 1671
304 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1662
303 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor] [1] 1659
302 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1646
301 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering] [1] 1643
300 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [Plasma actuator와 DBD 방법] [3] 1641
299 전자 온도 구하기 [쉬스 전압, 스퍼터링 효과] [1] file 1634
298 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해] [1] 1628
297 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의] [1] 1625
296 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [플라즈마 전류량] [1] 1625
295 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 1624
294 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [플라즈마 생성 반응] [1] file 1621

Boards


XE Login