질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92612 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76858
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20263
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57196
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68747
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92612
397 Si Wafer Broken [2] 2530
396 질문있습니다. [1] 2580
395 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2586
394 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2591
393 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2652
392 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2657
391 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2693
390 PR wafer seasoning [1] 2705
389 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2730
388 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2782
387 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2792
386 임피던스 매칭회로 [1] file 2820
385 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2832
384 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2850
383 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2882
382 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2886
381 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2909
380 RF matcher와 particle 관계 [2] 2958
379 Plasma etcher particle 원인 [1] 2994
378 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3000

Boards


XE Login