안녕하세요 박사님. 플라즈마 장비를 다루는 반도체 장비 회사에 다니는 연구원입니다.

항상 좋은 글 잘 보고 있습니다.

 

다름이 아니라 저희가 현재 유입하는 Gas의 유량을 조절하여 이것이 공정에 어떤 영향을 끼치는지 분석하고 있습니다.

 

저희가 펌프의 Valve를 고정해놓고 실험을 했기 때문에 유입시키는 Gas 양을 줄이면서 자연스럽게 Pressure 또한 줄어 들었는데,

이 때 Gas의 Residence Time 이 어떻게 변하는지 궁금합니다.

 

같은 양의 Gas라고 하더라도 Residence time에 따라 공정 결과 값이 바뀔 것 같은데 

이 Residence time은 어떻게 구할 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75427
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19163
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56479
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67558
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89368
648 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 538
647 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 542
646 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 545
645 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 564
644 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 585
643 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 586
642 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 597
641 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 598
640 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 599
639 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 601
638 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 602
637 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 606
636 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 606
635 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 608
634 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 615
633 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 621
632 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 626
631 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 627
630 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 633
629 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 635

Boards


XE Login