Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제
2019.03.28 15:12
안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.
요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.
특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다.
리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...
혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.
감사합니다.
참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 31(5), 050825.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76749 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20217 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57170 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68707 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92308 |
530 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13203 |
529 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 13057 |
528 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12809 |
527 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12759 |
526 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 12491 |
525 | 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. | 12357 |
524 | 플라즈마 살균 방식 [2] | 11451 |
523 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] | 11423 |
522 | Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] | 11340 |
521 | DC bias (Self bias) [3] | 11265 |
520 | RGA에 대해서 | 10543 |
519 | 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] | 10379 |
518 | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10361 |
517 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10355 |
516 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10302 |
515 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 9969 |
514 | ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] | 9850 |
513 | 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. | 9843 |
512 | 수중 방전 관련 질문입니다. [1] | 9666 |
511 | 대기압 플라즈마에 대해서 | 9637 |
소자의 식각 데미지에 대해서는 아마도 성균관대학교 염근영교수님께서 답변을 주실 수 있으실 것 같습니다.