질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92712 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76885
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20279
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57200
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68755
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92712
499 MFP에 대해서.. [1] 7830
498 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7706
497 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7660
496 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7648
495 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7271
494 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7112
493 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6692
492 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6688
491 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6570
490 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6540
489 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6500
488 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6493
487 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6472
486 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6453
485 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6439
484 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6419
483 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6410
482 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6369
481 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6293
480 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6279

Boards


XE Login