질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:91695 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
403 RF matcher와 particle 관계 [2] 2856
402 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2853
401 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2849
400 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2805
399 임피던스 매칭회로 [1] file 2789
398 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2719
397 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2716
396 PR wafer seasoning [1] 2694
395 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2674
394 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2667
393 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2662
392 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2617
391 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2602
390 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2571
389 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2565
388 질문있습니다. [1] 2544
387 Si Wafer Broken [2] 2472
386 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2469
385 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2451
384 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2423

Boards


XE Login