질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:93631 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20846
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93631
219 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 958
218 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 958
217 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 949
216 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 943
215 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 940
214 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 936
213 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 929
212 Self bias 내용 질문입니다. [1] 926
211 Plasma Generator 관련해서요. [1] 922
210 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 912
209 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 898
208 문의 드립니다. [1] 896
207 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해] [1] 895
206 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 892
205 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 886
204 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 886
203 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 881
202 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 875
201 RF 파워서플라이 매칭 문제 874
200 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 867

Boards


XE Login