질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92690 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76866
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20268
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57197
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68750
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92690
57 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 341
56 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 327
55 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 324
54 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 324
53 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 322
52 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 318
51 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 315
50 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 298
49 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 279
48 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 278
47 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 268
46 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 266
45 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 261
44 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 258
43 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 254
42 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 251
41 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 235
40 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 225
39 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 219
38 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 218

Boards


XE Login