안녕하세요 박사님. 플라즈마 장비를 다루는 반도체 장비 회사에 다니는 연구원입니다.

항상 좋은 글 잘 보고 있습니다.

 

다름이 아니라 저희가 현재 유입하는 Gas의 유량을 조절하여 이것이 공정에 어떤 영향을 끼치는지 분석하고 있습니다.

 

저희가 펌프의 Valve를 고정해놓고 실험을 했기 때문에 유입시키는 Gas 양을 줄이면서 자연스럽게 Pressure 또한 줄어 들었는데,

이 때 Gas의 Residence Time 이 어떻게 변하는지 궁금합니다.

 

같은 양의 Gas라고 하더라도 Residence time에 따라 공정 결과 값이 바뀔 것 같은데 

이 Residence time은 어떻게 구할 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103351
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24717
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61537
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73521
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105953
201 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 1267
200 아래 382번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [Self bias와 capacitance] [1] 1287
199 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb] [1] 1293
198 3-body recombination 관련 문의드립니다. [Energy 보존 및 momentum 보존] [2] 1313
197 Collisional mean free path 문의… [MFP와 평균값 개념] [1] 1334
196 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1343
195 plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학] [1] 1343
194 Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1373
193 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion] [1] 1406
192 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1410
191 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1410
190 Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1411
189 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 1416
188 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance] [2] 1468
187 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI] [2] 1473
186 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating] [1] 1478
185 플라즈마 기초입니다 [Breakdown과 electrolysis] [1] 1512
184 wafer bias [Self bias] [1] 1532
183 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [Skin depth, global model과 floating potential] [2] 1561
182 플라즈마 내에서의 현상 [Neo-classical transport theory] [1] 1619

Boards


XE Login