질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92323 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76756
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20218
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57170
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68708
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92323
119 anode sheath 질문드립니다. [1] 985
118 라디컬의 재결합 방지 [1] 794
117 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1456
116 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3325
115 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 979
114 플라즈마 챔버 [2] 1246
113 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1671
112 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1325
111 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1356
110 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 809
109 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1490
108 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16660
107 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2316
106 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2479
105 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4490
104 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3711
103 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 434
102 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2385
101 remote plasma 데미지 질문 [1] 14463
100 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1915
쓰기
태그

Boards

XE Login