안녕하세요 박사님. 플라즈마 장비를 다루는 반도체 장비 회사에 다니는 연구원입니다.

항상 좋은 글 잘 보고 있습니다.

 

다름이 아니라 저희가 현재 유입하는 Gas의 유량을 조절하여 이것이 공정에 어떤 영향을 끼치는지 분석하고 있습니다.

 

저희가 펌프의 Valve를 고정해놓고 실험을 했기 때문에 유입시키는 Gas 양을 줄이면서 자연스럽게 Pressure 또한 줄어 들었는데,

이 때 Gas의 Residence Time 이 어떻게 변하는지 궁금합니다.

 

같은 양의 Gas라고 하더라도 Residence time에 따라 공정 결과 값이 바뀔 것 같은데 

이 Residence time은 어떻게 구할 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82006
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21855
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58635
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70262
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95952
82 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [Breakdown 이해] [1] 918
81 문의 드립니다. [방전 개시 조건 및 Bohm current density] [1] 971
80 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 1066
79 Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1146
78 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1148
77 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1233
76 Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1249
» 잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드] [1] 1339
74 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor] [1] 1464
73 플라즈마 내에서의 현상 [Neo-classical transport theory] [1] 1480
72 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1483
71 강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net] [2] 1536
70 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1537
69 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1617
68 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1660
67 질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포] [1] 2715
66 Bias 관련 질문 드립니다. [Ion plasma frequency] [1] 3677
65 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [Gas별 고유한 플라즈마 색] [1] 3839
64 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas] [1] 4155
63 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘] [2] 4238

Boards


XE Login