질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:86016 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [158] 72997
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17589
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55512
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65687
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86016
26 ICP lower power 와 RF bias [1] 386
25 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 436
24 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 540
23 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 507
22 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 1359
21 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1471
20 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 757
19 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 991
18 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1858
17 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2165
16 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 2652
15 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1238
14 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 1490
13 공정플라즈마 [1] 892
12 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1431
11 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1310
10 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1678
9 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 22787
8 glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 21479
7 플라즈마가 불안정한대요.. 24364

Boards


XE Login