질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:98094 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [320] 85743
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22614
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59310
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71050
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 98094
33 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 193
32 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 252
31 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 326
30 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 403
29 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 465
28 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 468
27 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 561
26 ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델] [1] 867
25 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 1094
24 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] 1314
23 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1498
22 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1697
21 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1771
20 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1780
19 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1817
18 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance] [1] 1828
17 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 1861
16 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] 2044
15 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 2227
14 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2560

Boards


XE Login