다른 질문사항에 Matcher 매칭회로에서 Load, Tune에 관한 설명을 봤는데요

공정을 진행하다보면 간헐적으로 Load, Tune 값이 바뀌며 Vpp drop이 발생합니다.

PEALD 장비에서 Load와 Tune 값에 영향을 미치는 요소들이 뭐가 있을지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76858
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20263
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57197
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68749
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92623
82 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2586
81 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 548
80 알고싶습니다 [1] 1466
79 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2832
78 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1606
77 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3225
76 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3952
75 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3709
74 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10407
73 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 845
72 임피던스 매칭회로 [1] file 2820
71 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1171
70 chamber impedance [1] 2014
69 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5088
» Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6285
67 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3204
66 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3548
65 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2350
64 ESC Cooling gas 관련 [1] 3552
63 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1330

Boards


XE Login