질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:89363 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75425
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19161
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56479
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67556
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89363
96 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 893
95 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 899
94 고진공 만드는방법. [1] 925
93 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 965
92 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1007
91 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1054
90 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1202
89 알고싶습니다 [1] 1220
88 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1222
87 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1254
86 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1281
85 MATCHER 발열 문제 [3] 1335
84 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1345
83 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1374
82 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1392
81 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1427
80 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1447
79 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1550
78 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 1591
77 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1770
쓰기
태그

Boards

XE Login