질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:106074 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [335] 103761
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24749
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61617
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73571
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 106074
34 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 25163
33 RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 20572
32 교육 기관 문의 17843
31 스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화] [1] 22050
30 PECVD에서 플라즈마 demage가 발생 조건 [쉬스와 플라즈마 밀도에 의한 damage] 30146
29 플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅] 22228
28 wafer 전하 소거: 경험 있습니다. 20612
27 DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 [플라즈마 부유 전위] 19808
26 DC SPT 문의 [절연체의 전위] 19788
25 sputter 16997
24 Arcing [아크의 종류와 발생 원인] 24557
23 Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? [Splash와 TG Maker] 18205
22 plasma cleanning에 관하여 [Sputtering과 Etch] 20983
21 ICP 식각에 대하여… [Electronegative plasma] 17113
20 박막 형성 [ICP와 MOCVD] 15393
19 플라즈마를 이용한 폐기물 처리 [코로나 방전, 먼지 집진] 19733
18 플라즈마 처리 [표면처리와 Plasma Chemistry] 17066
17 플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential] 43947
16 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 [Capacitance와 DC ripple] 18152
15 sputtering 18445

Boards


XE Login