질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:91342 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76431
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19995
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57067
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68543
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91342
40 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 711
39 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 708
38 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 682
37 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 660
36 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 660
35 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 645
34 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 629
33 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 628
32 Polymer Temp Etch [1] 608
31 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 586
30 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 573
29 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 570
28 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 531
27 RF Sputtering Target Issue [2] file 531
26 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 519
25 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 459
24 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 428
23 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 421
22 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 394
21 PECVD Uniformity [1] 394

Boards


XE Login