Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:1563

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.


요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.


참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 31(5), 050825.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73034
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17630
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55517
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86031
33 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1309
32 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1352
31 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 1391
30 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1499
29 터보펌프 에러관련 [1] 1559
» 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1563
27 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1655
26 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1664
25 etching에 관한 질문입니다. [1] 1763
24 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1988
23 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2140
22 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2250
21 Plasma etcher particle 원인 [1] 2316
20 PR wafer seasoning [1] 2514
19 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2605
18 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3062
17 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3602
16 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3705
15 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 4112
14 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 4240
쓰기
태그

Boards

XE Login