질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:82208 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [103] 3678
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15366
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50582
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63013
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82208
30 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 271
29 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 323
28 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 459
27 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 464
26 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 903
25 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 942
24 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 979
23 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 979
22 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1022
21 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1436
20 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1514
19 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 1520
18 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2255
17 플라즈마 색 관찰 [1] 2783
16 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6131
15 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 7478
14 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 7908
13 질문있습니다 교수님 [1] 14669
12 박막 형성 15099
11 PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해 [1] 15460

Boards


XE Login