안녕하세요. 저는 유니스트에 재학중인 대학원생입니다.


이전에도 ICP CVD에 대해서 질문을 올렸었는데 그때 답변을 보고 문제점이 무엇인지 알수 있었습니다. 너무나 감사합니다.


그래서 이번에도 질문이 생겨 다시한번 찾아오게 되었습니다.


이번에 궁금한 점은 ICP CVD의 sample stage나 substrate에 magnetic property가 존재할 경우 plasma의 거동이 변하는지 변한다면 어떤식으로 변하게 될지 궁금하여 질문을 드립니다.


제가 찾아본 자료들을 보면 sample stage에 bias를 걸어서 deposition rate을 조절할수 있다는 자료들을 찾아 봤었습니다.


 그러다 문득 생각난게 magnetic field도 유사한 결과를 보여줄것 같은데 이렇게 생각해도 되는지 궁금합니다.


혹시 관련된 서적이나 논문 자료등 추천해주실 만한 자료가 있으시면 염치 불구하고 부탁드리겠습니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77273
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20485
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57401
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68922
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92970
36 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 212
35 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 252
34 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 431
» magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 479
32 PECVD Uniformity [1] 612
31 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 747
30 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 755
29 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1147
28 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1323
27 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1452
26 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1558
25 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1697
24 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1788
23 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1923
22 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1975
21 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2385
20 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2949
19 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3396
18 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4185
17 플라즈마 색 관찰 [1] 4361

Boards


XE Login