질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:94683 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79715
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21376
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69749
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94683
24 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41418
23 Ground에 대하여 39707
22 Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시] [1] 28760
21 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태] [2] 26619
20 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25636
19 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 24844
18 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24779
17 Peak RF Voltage의 의미 22708
16 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21205
15 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어] [1] file 20478
14 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20159
13 CCP/ICP에서 자석의 역할에 대하여 [ICP와 자기장의 역할] 19396
12 MFC [Direct liquid injection] 19368
11 최적의 펌프는? [Turbo Pump와 corrosion free] 18584
10 Faraday shielding & Screening effect [Fluctuation과 grid bias] 18401
9 Electrode의 역할에 대해서 궁금합니다. [이차전자의 방출과 스퍼터링] 17420
8 반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하] 12845
7 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다.. 도와주십시오 ㅠㅠ [플라즈마의 진공과 가스 주입] [1] 10129
6 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2408
5 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1555
쓰기
태그

Boards

XE Login